ANNEALSYS

最高到達温度1,500℃、最大昇温速度200℃/秒での熱処理が可能!

ANNEALSYSはRTA、RTP、液体原料CVD等の熱処理装置に特色があります。 優れた加熱均一性で素早く正確な温度制御が実現でき、最大200mmサイズまでの熱処理が可能です。GaN、GaAsなどの化合物半導体の熱処理に最適で、世界中で幅広く使用されています。また、掲載モデル以外にもSiC用の熱処理装置やALD装置など、様々なラインナップの製品をご用意しております。

RTA/RTP装置 As-One(R&D、中規模生産用)

RTA/RTP装置 As-One(R&D、中規模生産用)

  • 4インチ、または6インチウエハ対応。
  • 最大昇温速度200℃/秒。
  • 最高到達温度1,500℃。
  • 高速冷却システムの実現(100℃/秒)。
  • フットプリントは51cm・80cmとコンパクト。
  • パソコン+産業用PLCによる簡便かつ安全の高い制御系。
  • 各種サセプターも対応可能。
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RTA/RTP装置 As-Master(生産用)

RTA/RTP装置 As-Master(生産用)

  • 最大8インチウエハ対応。
  • 最大昇温速度200℃/秒。
  • 最高到達温度1,500℃。
  • 真空度 大気圧~10-6Torr。
  • パソコン+産業用PLCによる簡便かつ安全の高い制御系。
  • 各種サセプターも対応可能。
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RTA/RTP装置 As-Micro(R&D用)

RTA/RTP装置 As-Micro(R&D用)

  • 数mm角サンプル~最大3インチウエハ対応。
  • コンパクトサイズで机上設置可能。
  • 最大昇温速度250℃/秒 (2"ウエハ)。
  • 最高到達温度1,250℃。
  • 真空度 大気圧~10-2Torr。
  • パソコン+産業用PLCによる簡便かつ安全の高い制御系。
  • 各種サセプターも対応可能。
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