海外の先端システムとお客様の
ニーズをつなぐエンジニアリング技術

欧米諸国で評価の高い、薄膜関連装置を国内のお客様に供給するにあたり、それを提供するエンジニアを育てることを大切にしています。
また装置の輸入販売だけではなく、デモ機による性能評価から立ち上げ後のアフターサポートはもちろん、生産性向上のための改造まで対応します。それが、ハイテック・システムズの先端システム事業です。

先端システム事業

ナノテクノロジーや3次元加工アプリケーションのグローバルスタンダード、
Ultratech/Cambridge Nanotech社、scia Systems社及びANNEALSYS社の最先端テクノロジー装置を販売しています。

Ultratech(U.S.A.)

Ultratech(U.S.A.)

  薄膜形成 アニール トリミング 製品名 型式
量産/R&D     Savannah G2 サーマル式ALD
R&D     Fiji G2 プラズマ/サーマル
式ALD
量産     Phoenix G2 バッチ式ALD

Ultratech/CambridgeNanoTech社は米国Ultratech社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で 先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。

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scia Systems (Germany)

scia Systems (Germany)

  薄膜形成 アニール トリミング 製品名 型式
量産     scia Trim 200 イオンビームトリミング
量産     scia Mill 150 イオンビームエッチング・
ミリング
量産     scia Magna 200 ダブルリングマグネトロン
DCパルス式スパッタ
量産     scia Coat 200 デュアルイオンビームスパ
ッタ

独scia Systems GmbH(スキアシステムズ社)は、マイクロエレクトロニクス、MEMS及び光学系向けの研究開発・製造装置用に最先端のイオンビームとプラズマプロセス装置、高い技術サポートと極めて信頼性の高い製造装置を提供致します。プロセス装置は標準基板サイズに適応したプラットフォームに対応しておりフレキシブルでモジュール化されたデザインとなっております。その為、様々なプロセスチャンバーをお客様のニーズによりクラスター化やインラインソリューションとしてご提案する事が可能です。

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ANNEALSYS (France)

ANNEALSYS (France)

  薄膜形成 アニール 製品名 型式
R&D   AS-Micro 高速熱処理(RTP)
R&D/小ロット   AS-One 高速熱処理(RTP)
量産   AS-Premium 高速熱処理(RTP)
量産   AS-Master 高速熱処理(RTP)
量産   Zenith 100 高速熱処理(RTP)
R&D MC-050 DLI-CVD and DLI-ALD
量産   MC-100 DLI-CVD and DLI-ALD
量産   MC-200 DLI-CVD and DLI-ALD

ANNEALSYSはRTA、RTP、液体原料CVD等の熱処理装置に特色があります。優れた加熱均一性で素早く正確な温度制御が実現でき、最大200mmサイズまでの熱処理が可能です。 GaN、GaAsなどの化合物半導体の熱処理に最適で、世界中で幅広く使用されています。 また、掲載モデル以外にもSiC用の熱処理装置やALD装置など、様々なラインナップの製品を御用意しております。

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ビジネスフロー

  • 仕様検討
  • サンプルデモ
  • 発注/製作
  • 出荷前立ち会い
  • 出荷/輸入
  • 搬入/立ち上げ
  • 条件出し
  • トレーニング
  • 検収

ハイテック・システムズ

特徴

  • 成膜サービスが充実
  • サポート体制が充実
  • 日本人エンジニアが充実

お客様

導入後のアフターフォロー

スペアパーツ提供/仕様のカスタマイズ
国内エンジニアリングによるサポート

  • 本国メーカーとの連携サポート
  • 立ち上げサポート
  • オンラインサポート(リモートアクセス)
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