Ultratech/Cambrigde Nanotech社は米国Ultratech社のALD(Atomic Layer Deposition)事業部門で先端のALD(原子層堆積)技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。

savannah(サバンナ)G2

savannah(サバンナ)G2

  • 機械名:サーマル式ALD装置 (新モデル)
  • デジタル制御により一層ずつ堆積、精密な厚さを実現しました。
  • デクスポージャーモード使用により超高アスペクト比構造体への成膜が
    可能です。
  • 導入を容易にするコストパフォーマンス。
  • ALD Vapor Trapを装備、反応室の残存プリカーサーを膜付けしてクリ
    ーンな排気を実現します。
  • 新たなオプションが加わり、さらに多彩な成膜が可能です。
  • LVPD(低蒸気圧プリカーサー供給)システム
  • SAMs(自己組織化単分子膜)
  • その場計測(エリプソ、QCM)
  • LavVIEWを使用した分かりやすい操作システム、標準的レシピの提供。
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Fiji(フィジー)G2

Fiji(フィジー)G2

  • 機械名:プラズマ式/サーマル式両用ALD装置(新モデル)
  • プラズマ、サーマル両方のALD成膜が可能です。
  • ALD成膜専用に開発されたチャンバー、排気機構を改善。
  • チャンバーターボポンプ、ALD Vapor Trapを標準にて装備します。
  • ロードロック機構、オゾン発生器、グローブボックス接続など多くの
    オプションを用意。
  • LavVIEWを使用した操作システム。
  • 操作画面を改良、分かりやすい操作システム。
  • 標準的レシピの提供。
  • 成膜の種類が拡大。
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Phoenix(フェニックス)

Phoenix(フェニックス)

  • 機械名:量産用バッチ式ALD装置
  • バッチ装置 複数のカセットを同時成膜、大きな3D基板成膜が可能です。(100mm~200mmウエハ 100枚/バッチ、300mmウエハ 12枚、2.5世代角基板 5枚)
  • 高精度の均一な膜を、短いサイクルタイムで処理。
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Tahiti(タヒチ)

Tahiti(タヒチ)

  • 機械名:大型基板用ALD装置
  • 4.5世代(Tahiti I)、5.5世代(Tahiti II)角基板を成膜。
  • 大面積の基板において、高精度の均一な膜を成膜します。

Tahiti(タヒチ)

[成膜サービス]

富士技術センターのクリーンルームにて、Savannah及びFijiの2台のALD
装置を設置し、成膜サービス(有料)をお受けしています。
ご希望の方は、成膜条件や日程など、弊社までお問い合わせください。

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