アメリカ Veeco社のALD部門 (旧CambridgeNanoTech社)は、世界中の研究開発機関及び製造現場に550台以上のALD（原子層堆積）装置を供給しており、それらの装置を使用して発表された公的な文献は2000以上にもなります。
これからもALD装置のリーディングサプライヤーとして、蓄積された技術力と新しい開発力でALD装置を供給し続けます。
研究開発用、小規模バッチ用サーマルALD装置 Savannah G2
Veeco社製ALD装置Savannahシリーズは、シンプルで使いやすく研究開発から少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。
特長
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高い成膜性能をシンプルなシステムで実現
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超高アスペクト比(<2000:1)対応モード
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用途と予算に合わせた構成選択
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プリカーサライン：最大6ライン
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簡易除害ユニット；ALD Shield Vapor Trap 標準搭載
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豊富なオプション（オゾンジェネレータ、ドームリッド、LVPD、QCM、SAMS、粉体成膜、グローブボックスI/F、プラズマキット）
研究開発用プラズマ/サーマルALD装置 Fiji G2
サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜のALD膜が成膜できる設計になっています。
特長
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500℃ウエハステージ
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プラズマダメージの無いリモートICPソース採用
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超高アスペクト比(<2000:1)対応モード(サーマル)
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プラズマガスライン：最大6ライン
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プリカーサライン：最大6ライン
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簡易除害ユニット；ALD Shield Vapor Trap 標準搭載
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リモートプラズマに適した専用リアクター
量産機サーマルALD装置 Phoenix G2
中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。
特長
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優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザイン
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多用途に対し容易に使用可能
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量産に必要な多くの安全対策仕様
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セミオートローダー又は真空ロードロック対応
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適切なチャンバーサイズ：<370mmx470mm
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コンパクトな装置サイズ：900mmx1370mm1700mm (ローダー、ロードロック含まず。)
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簡易除害ユニット；ALD Shield Vapor Trap搭載
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成膜温度：50～285℃
大規模量産機サーマルALD装置 Firebird
大規模量産の為のクラスターツールタイプサーマル式のALD装置です。
特長
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トップクラスのスループット
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低所有コスト
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実績のあるVeecoの自動化システム
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柔軟性のあるモジュール化されたデザイン
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基板への衝撃の少ないバッチ搬送
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Veecoの世界規模のセールス・サービス・サポート
提携企業一覧
