ドイツ SENTECH Instruments社は、1990年に設立され、クオリティーの高いプラズマエッチングシステム、PECVD、ALD、薄膜測定装置を研究開発及び製造現場にワールドワイドで販売する装置メーカーです。
納入後も高いアプリケーション能力でサポートしております。
ICP-RIE SI 500
特長
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独自のPTSA200ICPソースによる 10 12 [イオン/cm 3]の高いプラズマ密度により高エッチレートを実現。
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ICPパワーによるイオン密度の制御
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バイアスパワーによるイオンエネルギーの制御
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ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化
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低ダメージエッチング
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高選択性エッチング
ICPECVD SI 500 D
特長
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独自のPTSA200ICPソースによる 10 12 [イオン/cm 3]の高いプラズマ密度により
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－低温成膜
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－低ダメージ
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－高コンフォマリティーを実現。
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ICPパワーによるイオン密度の制御
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オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御
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リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の間隔調整によるプロセスの最適化
レーザーエンドポイントモニター SLI 670
レーザー干渉計
SENTECH社のプラズマ装置用エンドポイントモニターは、プラズマ装置の上部の窓からレーザービームを照射しサンプルからの反射光を測定し膜厚を測定。
透過膜のエッチングや成膜のIn-situでの膜厚モニターに最適。
特長
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波長：670/980nm
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スポットサイズ：100μm
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モーター駆動ステージ
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反射率、干渉モード
クラスターツール 3 ICP + 2 cassette モジュール
特長
搭載可能モジュール
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SI 500-1M ICP-RIEモジュール
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SI 500 D-1M ICPECVDモジュール
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SI 500 RIE-1M RIEモジュール
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SI 500 PPD-1M PECVDモジュール
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SI ALD-1M ALDモジュール
搬送チャンバー
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3ポート
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4ポート
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6ポート
提携企業一覧
